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华科大教授获“科学探索奖”研究方向或突破集成电路制造技术瓶颈

发布日期:2021-09-14 12:04   来源:未知   阅读:

  陈蓉曾在美国硅谷求学和工作十多年,在2011年选择回到家乡武汉,进入华中科技大学。她告诉长江日报记者,心中从未断过的“亲情溶于水的家国情结”让她坚定地做出这个决定。

  “作为湖北武汉人,返回祖国,回到我的家乡武汉,有一种踏实的归属感和幸福感。”陈蓉说,武汉承载着中部地区崛起、长江中游城市群协同发展、国家自主创新示范区等重大战略任务。武汉作为国家科技创新中心,科教基础雄厚,华中科技大学机械科学与工程学院更有着独特的学科优势和办学风格,这让她毫不犹豫选择“从硅谷回到光谷”。

  回国后,陈蓉十分忙碌,但她欣慰于学生的进步、城市的进步。2011年回国时,国内在ALD(原子层沉积)制造上相对空白。加入华中科大机械学院后,她有了一群非常能干的学生,他们一起科研攻关,如今不仅完成交叉学科融合的蜕变,形成自己的特色,更产生国际影响。

  “比起美国成熟的体系,中国是在加速器上,变化天天可见。让我特别自豪的是,经过这些年的发展,我们已经代表中国在国际标委会提出原子层沉积技术标准,并组织各个国家的专家一起推进。”

  陈蓉教授的研究方向是“选择性原子层沉积技术”,她被看作这项技术的开拓者。这种技术突破的是传统“自上而下”的光刻-刻蚀等减材策略,另辟蹊径以原子或分子为基本搭建“积木”单元实现“自下而上”的目标结构制造,通俗地讲即是以原子或分子为“砖”来盖纳米结构的“大厦”。

  全球原子层沉积技术主要用于集成电路制造,并拓展到光伏、显示等半导体或泛半导体领域以及航空航天、能源环保等新兴领域。基于原子层沉积技术的一系列原创成果,填补了国内技术空白,相关研究与国际上处于齐头并进的态势。

  陈蓉教授介绍,目前她的“选择性原子层沉积技术”在发光显示等领域已经取得示范应用,有望推动微纳制造领域深层次变革,突破集成电路制造中的瓶颈技术,对于解决芯片制造的卡脖子难题,争取和提升集成电路制造的国际竞争力和话语权,具有十分重要的意义。

  陈蓉团队的科研工作受到了台积电、三星、IMEC等业内顶尖企业引用并高度评价:选择性沉积方法被认为是先进节点中的使能技术。

  “制造的核心和内涵,是要服务支柱行业面向国家重大需求和国民经济主战场。”陈蓉教授介绍道,目前,他们的研究工作有很大一部分与光电器件等紧密结合,这也是武汉光谷的重要产业。

  陈蓉教授表示,光谷有一大批“芯屏网端”的高新技术企业和联盟,如国家三维集成创新中心、武汉新芯、华星光电、京东方等。在各级政府大力支持下,高校开展基础研究,企业开展技术孵化,有利于促进该技术尽快实现“产学研用”的转化,抢占科技发展制高点。

  目前,课题组已经与国家三维集成创新中心和部分芯片、存储、显示行业等高新科技企业开展了相关的合作研究。

  这次获奖后的奖金会怎么用?陈蓉教授坦言,300万元奖金不算小数目,尤其对青年科研工作者,这样的安排,对于青年科学家是充分的信任和激励。“理想的科研状态,是能够体面地,心无旁骛地做自己最擅长、最有激情的创新,不必为了经费去奔波。我应该会利用奖金来支持课题组创新创业,让我们的研究取得更大的突破。”

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